韩国利用光刻技术开发高PPI 硅基OLED FMM
韩国显示设备企业Olumma terial正在以EST(Electroforming on Silicon Template硅板电镀)方式,开发分辨率高达5000 PPI的OLEDoS(硅基OLED)超精密金属掩模板(FMM)。
据业内人士推测,Olumma terial所说的EST方式可能与韩国另一家显示设备企业APS生产FMM的方法类似,都是先在硅基板上涂覆因瓦合金(殷钢),然后使用光刻和干法蚀刻来制作FMM的图案,一旦图案形成,硅就会被蚀刻掉,留下FMM成品。
由于这种技术采用了芯片生产中所使用的光刻技术,因此,可以精确地蚀刻FMM,形成超极细小且规整的空洞,而这是实现OLEDoS超高PPI的关键。
去年12月,APS宣布已使用该方法开发出可生产3000ppi OLEDoS的FMM。如今,Olumma terial将有望借此开发出分辨率达5000 PPI的OLEDoS FMM,以更好地满足近眼显示产品的高分辨率需求,提升消费者的沉浸感。
来源:中国电子报、电子信息产业网
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